Bottega Veneta繼去年在紐約首度舉辦的 NEW EXPOSURE 攝影比賽，成功發掘才華出眾的攝影新秀，今年再接再厲，宣佈舉辦第二屆攝影比賽，為攝影新秀提供更多表現機會。而更今年首次接受全球參賽者報名，入圍者將在多位於時尚、攝影、電影以及設計界的評審委員面前展示其作品。NEW EXPOSURE 的評審團隊結合了雲集時尚、攝影、電影及設計界名人：其中包括品牌創意總監Tomas Maier、時尚雜誌攝影總監 Ivan Shaw、傳奇超模 Linda Evangelista、蜚聲國際的時裝編輯與形象設計師 Carlyne Cerf de Dudzeele、著名攝影師Collier Schorr 與Craig McDean、權威化妝師 Pat McGrath、紐約大都會博物館服裝研究館部館長 Andrew Bolton等。評審團將在7月下旬甄選參賽作品，並選出十強進入決賽。每位決賽入圍者須完成一項指定工作計畫，決賽將於夏季季末進行，而最終比賽結果將於9月紐約時裝周期間舉行頒獎典禮頒發。優勝者將獲得10,000 美元現金獎、由提供一年的相關指導課程、以及加入跟從攝影大師實習，更有機會為 Bottega Veneta進行拍攝工作。此外活動更增設網路投票，只要透過品牌社群網路，即可瀏覽十位決賽入圍者作品，並投票支持最喜愛之選，票數最多的入圍者也將與比賽冠軍的得主一併獲受嘉許。